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実験データ
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【ウェハ】目標膜厚3μmに対して膜厚分布±3-5%以下を実現。硫酸銅めっき実験結果例
多くの大学や研究機関で導入いただいている当社のシリコンウェハ用めっき装置ですが、ここでは実際に装置を使用し行った実験のデータをご紹介します。今回は8inch用の標準ウェハ用めっき装置を使用し、目標膜厚は3μmで実験を行いました。
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多くの大学や研究機関で導入いただいている当社のシリコンウェハ用めっき装置ですが、ここでは実際に装置を使用し行った実験のデータをご紹介します。今回は8inch用の標準ウェハ用めっき装置を使用し、目標膜厚は3μmで実験を行いました。
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