2～12inchシリコンウェハ用のめっき装置のセットです。専用の治具を使用することで、半導体・MEMSの精密なめっきが行なえます。

特長

• 水槽は常時ろ過を行いながら水槽底部からゆるやかな対流を起こし、オーバーフローする構造です。
• 1面オーバーフロータイプと、高速撹拌が可能になった2面オーバーフロータイプがあります。直接の撹拌にはパドル撹拌を利用します。
• 生産設備としてもご利用いただけます。
• 国内外で特許数件取得済み、他数件出願中です。

基板素材

シリコンウェハだけでなくSiC、ガラス、GaAs、InP等の素材の基板へもお使いいただけます。

特注製作について

標準装置をベースに、お客様のサンプルに合わせた形状の治具や両面めっき用治具へカスタマイズできます。
また、陽極酸化・アルマイト用治具などの装置の製作実績もございます。
治具の種類も、完全密閉型、非密閉型治具、水平式等がありますので、お問い合わせフォームよりぜひご相談ください。　

セット内訳

A-52-ST□AWJYPPA　シリコンウェハ用めっき実験装置セットWJ型(YPP電源用)

（*1） オリフラ式/ノッチ式からお選びください。 密閉式/吸引密閉式もあります.
（*2） 不溶性陽極用には隔膜式もあります。
（*3） 製品番号の□印にはinch数が入ります。
（*）YPP電源用のセットです｡電源・温度調節器・陽極板は別売です。電源はA-57-15031WA, A-57-15100WA, A-57-15101Dから別途ご指定ください｡PCは別売です。

強撹拌仕様水槽（2面オーバーフロータイプで、約2倍の撹拌速度を実現

オーバーフローを1面から2面にすることで、パドル撹拌の速度が最大130rpmまで上がりました。液の撹拌効率が高まりより安定しためっきが可能になります。また、液ハネ防止構造を追加しました。

• 現在受注生産品です。サイズや仕様はお手数ですがお問い合わせください。
• めっきの種類やサイズによって、3面オーバーフロータイプをご提案することがあります。

製品動画

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